在常规的加酸沉淀法的基础上，添加六亚甲基四胺、与水不溶的有机溶剂和少量阴离子表面活性剂，特别是采用了产物不经干燥直接灼烧的方法，克服了现有技术中粒子易粘连的缺点。采用本发明的方法制得的超细二氧化硅，一次粒子的平均直径为20—30nm，二次粒子平均直径为100—150nm，且粒径分布窄，分散性能良好。
简单点就直接加热~
“ 在常规的加酸沉淀法的基础上，添加六亚甲基四胺、与水不溶的有机溶剂和少量阴离子表面活性剂，特别是采用了产物不经干燥直接灼烧的方法，克服了现有技术中粒子易粘连的缺点。 ”
加热可以是可以，但设备要求高，且不易制得。。。
内容全部来源于网络收集，如有侵权，请联系网站删除！